紫光源暗箱降解反應(yīng)儀 光化學催化反應(yīng)釜
更新時間:2023-04-17型 號: | CY-GHX-AC |
報 價: | 14652 |
紫光源暗箱降解反應(yīng)儀 光化學催化反應(yīng)釜川一儀器系列光化學反應(yīng)儀, 又稱為光化學反應(yīng)釜,多功能光化學反應(yīng)器.主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負載TiO2光催化劑等條件下的光化學反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品,測定反應(yīng)動力學常數(shù),測定量子產(chǎn)率等功能,廣泛應(yīng)用化學合成、環(huán)境保護以及生命科學等研究領(lǐng)域。
CY-GHX-AC紫光源暗箱降解反應(yīng)儀 光化學催化反應(yīng)釜的詳細資料:
紫光源暗箱降解反應(yīng)儀 光化學催化反應(yīng)釜
1.光化學反應(yīng)儀智能微電腦控制,可觀察電流和電壓實時變化
2.進口光源控制器,內(nèi)置光源轉(zhuǎn)換器,功率連續(xù)可調(diào),穩(wěn)定性高
3. 光化學反應(yīng)儀具有分步定時功能,操作簡便
4.反應(yīng)暗箱內(nèi)壁使用防輻射材料,且?guī)в杏^察窗
5.采用內(nèi)照式光源,受光充分,燈源采用耐高壓防震材質(zhì),經(jīng)久耐用
6.配有8(6/12可選)位磁力攪拌裝置,使樣品充分混勻受光
7.雙層耐高低溫石英冷阱,可通入冷卻水循環(huán)維持反應(yīng)溫度
8.光化學反應(yīng)儀高溫度保護系統(tǒng),自動斷電功能
9.機箱外部結(jié)構(gòu)設(shè)有循環(huán)水進出口,內(nèi)部設(shè)有2個專用插座,供燈源和攪拌反應(yīng)器用
光化學反應(yīng)儀工作原理:
光化學反應(yīng)儀主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負載TiO2光催化劑等條件下的光化學反應(yīng)。
光化學反應(yīng)儀也可稱為光催化反應(yīng)儀、光解水反應(yīng)儀、光降解反應(yīng)儀、光化學反應(yīng)釜、光化學反應(yīng)裝置、光解水反應(yīng)裝置等等。
光化學反應(yīng)儀種類分析:
多試管(小試管)光化學反應(yīng)儀、大試管光化學反應(yīng)儀、多功能光化學反應(yīng)儀。
光化學反應(yīng)儀應(yīng)用范圍:
應(yīng)用化學合成、環(huán)境保護以及生命科學等研究領(lǐng)域。
光化學反應(yīng)儀主要特征:
1.光化學反應(yīng)儀智能微電腦控制,可觀察電流和電壓實時變化;
2.光源控制器,內(nèi)置光源轉(zhuǎn)換器,功率連續(xù)可調(diào),穩(wěn)定性高;
3. 光化學反應(yīng)儀具有分步定時功能,操作簡便;
4.反應(yīng)暗箱內(nèi)壁使用防輻射材料,且?guī)в杏^察窗;
5.采用內(nèi)照式光源,受光充分,燈源采用耐高壓防震材質(zhì),經(jīng)久耐用;
6.配有大功率磁力攪拌裝置,使樣品充分混勻受光;
7.雙層耐高低溫石英冷阱,可通入冷卻水循環(huán)維持反應(yīng)溫度;
8.光化學反應(yīng)儀高溫度保護系統(tǒng),自動斷電功能;
紫光源暗箱降解反應(yīng)儀 光化學催化反應(yīng)釜
1、 準備工作:連接電源。使用該儀器前先把八位反應(yīng)器(或磁力攪拌器)放入主機箱內(nèi),石英反應(yīng)管(或反應(yīng)容器)內(nèi)放入磁子。之后檢查所需要使用的汞燈(氙燈)、反應(yīng)器以及冷卻水循環(huán)裝置是否連接好。(如下圖連接)
2、 反應(yīng)暗箱內(nèi)設(shè)有八位反應(yīng)器(或磁力攪拌器)和燈的電源接口,請按指示連接。
3、調(diào)節(jié)控制器上面的光源選擇,使所使用光源與控制器上面的保持一致(按光源種類和功率大小區(qū)分)
4、依次打開控制器上面的風扇開關(guān)、反應(yīng)器和燈開關(guān),風扇開始工作(反應(yīng)暗箱內(nèi)空氣開始外排。
5、打開八位反應(yīng)器(或磁力攪拌器)上面的電源開關(guān),按需調(diào)節(jié)攪拌速度。
6、光源功率調(diào)節(jié)位于控制器中心位置,可按需調(diào)節(jié)光源功率大小。
7、控制器右上方設(shè)有微電腦定時器,可按需設(shè)置工作時間。
注:無論使用汞燈或氙燈做實驗時,將燈源放置在石英冷阱內(nèi)使用(建議同時配套低溫冷卻循環(huán)裝置使用,避免溫度過高造成儀器損壞)。