大容量光催化反應(yīng)器CY-GHX-B光化學(xué)降解設(shè)備
更新時(shí)間:2019-12-12型 號(hào): | |
報(bào) 價(jià): |
大容量光催化反應(yīng)器CY-GHX-B光化學(xué)降解設(shè)備,主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品,測定反應(yīng)動(dòng)力學(xué)常數(shù),測定量子產(chǎn)率等功能,廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域。
大容量光催化反應(yīng)器CY-GHX-B光化學(xué)降解設(shè)備的詳細(xì)資料:
大容量光催化反應(yīng)器CY-GHX-B光化學(xué)降解設(shè)備
主要特征:
1.光化學(xué)反應(yīng)儀智能微電腦控制,可觀察電流和電壓實(shí)時(shí)變化
2.進(jìn)口光源控制器,內(nèi)置光源轉(zhuǎn)換器,功率連續(xù)可調(diào),穩(wěn)定性高
3.光化學(xué)反應(yīng)儀具有分步定時(shí)功能,操作簡便
4.反應(yīng)暗箱內(nèi)壁使用防輻射材料,且?guī)в杏^察窗
5.采用內(nèi)照式光源,受光充分,燈源采用耐高壓防震材質(zhì),經(jīng)久耐用
6.配有大功率磁力攪拌裝置,使樣品充分混勻受光
7.雙層耐高低溫石英冷阱,可通入冷卻水循環(huán)維持反應(yīng)溫度
8.光化學(xué)反應(yīng)儀高溫度保護(hù)系統(tǒng),自動(dòng)斷電功能
9.機(jī)箱外部結(jié)構(gòu)設(shè)有循環(huán)水進(jìn)出口,內(nèi)部設(shè)有2個(gè)插座,供燈源和攪拌反應(yīng)器用。
反應(yīng)暗箱:
主體箱是放置系列光化學(xué)反應(yīng)儀光照裝置的地方,具有以下特征:
1、箱體內(nèi)部為黑色,以降低光反射。
2、箱體后部有冷卻水進(jìn)出口。
3、調(diào)節(jié)控制器上面的光光源功率旋鈕,使所使用光源功率處于zui大狀態(tài),這樣利于燈管激亮。
4、依次打開控制器上面的風(fēng)扇開關(guān)、反應(yīng)器和燈開關(guān),風(fēng)扇開始工作(反應(yīng)暗箱內(nèi)空氣開始外排。
5、打開八位反應(yīng)器(或磁力攪拌器)上面的電源開關(guān),按需調(diào)節(jié)攪拌速度。
6、光源功率調(diào)節(jié)位于控制器中心位置,可按需調(diào)節(jié)光源功率大小。
7、控制器右上方設(shè)有微電腦定時(shí)器,可按需設(shè)置工作時(shí)間。
注:無論使用汞燈或氙燈做實(shí)驗(yàn)時(shí),必須將燈源放置在石英冷阱內(nèi)使用(建議同時(shí)配套低溫冷卻循環(huán)裝置使用,避免溫度過高造成儀器損壞)。
大容量光催化反應(yīng)器CY-GHX-B光化學(xué)降解設(shè)備
技術(shù)參數(shù):
型號(hào):CY-GHX-B大容量光化學(xué)反應(yīng)儀
(一)主體部分
1.光源功率可連續(xù)調(diào)節(jié)大小。
2.集成式光源控制器,可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。
3.汞燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
4.氙燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
5.金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
(二)大容量反應(yīng)部分
1.玻璃反應(yīng)器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等(或定做)。
2.大功率強(qiáng)力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。
光催化凈化技術(shù)主要是利用光催化劑二氧化欽(T'02)吸收外界輻射的光能,使其直接轉(zhuǎn)變?yōu)榛瘜W(xué)能。當(dāng)能量大于Ti02禁帶寬度的光照射半導(dǎo)體時(shí),光激發(fā)電子躍遷到導(dǎo)帶,形成導(dǎo)帶電子(e-),同時(shí)在價(jià)帶留下空穴階(h+)。由于半導(dǎo)體能帶的不連續(xù)性,電子和空穴的壽命較長,它們能夠在電場作用下或通過擴(kuò)散的方式運(yùn)動(dòng),與吸附在半導(dǎo)體催化劑粒子表面上的物質(zhì)發(fā)生氧化還原反應(yīng),或者被表面晶格缺陷俘獲??昭ê碗娮釉诖呋瘎┝W觾?nèi)部或表面也能直接復(fù)合,空穴能夠同吸附在催化劑粒子表面的月口一或HZO發(fā)生作用生成經(jīng)基自由基HO " , HO.是一種活性很高的粒子,能夠無選擇的氧化多種有機(jī)物并使之礦化。
由于光催化還屬于一種新興的技術(shù),有很多因素還需要額外考慮,諸如納米光催化劑的制備技術(shù)、納米光催化劑的高活性和高壽命技術(shù)、納米光催化劑的固載化技術(shù)和納米光催化劑反應(yīng)的設(shè)計(jì)技術(shù),這些因素的實(shí)現(xiàn)勢必會(huì)使得凈化器價(jià)格攀升,從而影響推廣。然而該技術(shù)zui大的不足在于,從利用太陽光效率的角度看,半導(dǎo)體的光吸收波長范圍狹窄,主要在紫外區(qū),利用太陽光的比例低;光生載流子的復(fù)合率很高,導(dǎo)致量子效率較低。
光學(xué)儀器起霧的原因及其危害
霧是指光學(xué)零件的拋光面上,呈現(xiàn)出"露水"似的物質(zhì),這些物質(zhì)有的是油質(zhì)點(diǎn)子構(gòu)成的,稱為油性霧,有的是由水珠或水與玻璃起化學(xué)反應(yīng)形成堆積物構(gòu)成的,稱為水性霧:有的光學(xué)零件上,兩種霧都有,叫做水油混合霧,一般的都以"露水"狀或干的堆積物存在于玻璃表面上。油性霧通常分布在元形光學(xué)零件的邊緣,并向中央伸延,有的則沿擦拭痕跡分布,油性霧的形成主要是油脂污染了玻璃表面,或是由于油脂的擴(kuò)散,揮發(fā)在玻璃表面凝結(jié)而造成的,比如擦拭光學(xué)零件所用的輔料含脂量高,或者所用的工具帶有油脂,用手指直接拿取和觸及光學(xué)零件等,都會(huì)引起油性霧,或者是光學(xué)儀器上所用油脂的化學(xué)穩(wěn)定性不好,產(chǎn)生擴(kuò)散或使用方法不當(dāng)涂油過多,油脂擴(kuò)散到光學(xué)零件上而引起油性霧,或者是由于儀表油脂揮發(fā)性很大,會(huì)產(chǎn)生油質(zhì)蒸氣而形成油性霧,還有的是用汽油清洗金工零件時(shí),沒有讓汽油充分發(fā)揮干凈,就涂油裝配。還有的用汽油稀釋放塵脂涂在鏡身內(nèi),隨著時(shí)間的增長和溫度的變化,這些汽油及所含的其它成份,逐漸揮發(fā)至光學(xué)零件上而形成油性霧。
水性霧是由于潮濕空氣在溫度變化下而形成,主要分布在零件的全面積上,產(chǎn)生原因主要是潮濕氣體所致,但與儀器密封性能、光學(xué)玻璃的化學(xué)穩(wěn)定性,以及玻璃表面的清潔程度有關(guān),在較高的相對(duì)濕度下,霉菌易生長,有些霉菌生長狀大后,便在菌絲體周圍產(chǎn)生分泌物,這些分泌物有的是液狀的,在液狀分泌物外圍便形成水性霧。不管何種原因形成的霧,由于霧滴以曲率半徑極小的球形分布于光學(xué)零件表面上、使入射光線產(chǎn)生散射現(xiàn)象,除了降低儀器的有效透光率外,并使成象質(zhì)量差影響觀測。有的光學(xué)零件因長期起霧,被腐蝕的玻璃表面形成很多微孔,嚴(yán)重的會(huì)使玻璃零件報(bào)廢。光學(xué)儀器起霧不僅在我國東南地區(qū)嚴(yán)重存在,就是較干燥的地區(qū),由于溫差變化,也會(huì)起霧,它比光學(xué)儀器生霉的影響范圍更大,而且更難防止。