控溫光催化反應(yīng)儀CY-GHX-BC大容量試管的詳細(xì)資料：

控溫光催化反應(yīng)儀CY-GHX-BC大容量試管

技術(shù)參數(shù)：

型號(hào)：CY-GHX-BC大容量控溫光化學(xué)反應(yīng)儀

（一）主體部分

1.光源功率可連續(xù)調(diào)節(jié)大小。

2.集成式光源控制器，可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

3.汞燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

4.氙燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

5.金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

（二）d容量反應(yīng)部分

1.玻璃反應(yīng)器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。

2.大功率強(qiáng)力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

（三）控溫裝置

1.冷卻水循環(huán)裝置制冷量：＞1000W

2.控溫范圍：-5°C到100°C

3.冷卻水循環(huán)裝置設(shè)有腳輪和底部排液閥。

多試管光化學(xué)反應(yīng)儀產(chǎn)品配置：

控溫光催化反應(yīng)儀CY-GHX-BC大容量試管

光催化反應(yīng)可以分為兩類(lèi)"降低能壘"(down hil1)和"升高能壘"(up hil1)反應(yīng)。光催化氧化降解有機(jī)物屬于降低能壘反應(yīng)，此類(lèi)反應(yīng)的△G<0，反應(yīng)過(guò)程不可逆，這類(lèi)反應(yīng)中在光催化劑的作用下引發(fā)生成o2-、ho2 g="">0(△G=237 kJ/mo1)，此類(lèi)反應(yīng)將光能轉(zhuǎn)化為化學(xué)能。

基本信息

概括

隨著能源需求的持續(xù)增長(zhǎng)，而儲(chǔ)備能源日益減少的情況下，開(kāi)發(fā)新能源的研究已經(jīng)迫在 光解水制氫系統(tǒng)實(shí)物對(duì)比眉睫。氫能，它作為二次能源，具有清潔、高效、安全、可貯存、可運(yùn)輸?shù)戎T多優(yōu)點(diǎn)，被人們認(rèn)為是一種的綠色能源。自1972年日本東京大學(xué)Fujishima A和Honda K兩位教授*報(bào)導(dǎo)TiO2單晶電極光催化分解水從而產(chǎn)生氫氣這一現(xiàn)象后，揭示了利用太陽(yáng)光直接分解水制氫的可能性，開(kāi)辟了利用太陽(yáng)能光解水制氫的研究道路。隨著電極電解水向半導(dǎo)體光催化分解水制氫的多相光催化(heterogeneous photocatalysis)的演變和TiO2以外的光催化劑的相繼發(fā)現(xiàn)，興起了以光催化方法分解水制氫(簡(jiǎn)稱(chēng)光解水)的研究，并在光催化劑的合成、改性等方面取得較大進(jìn)展。光解水制氫系統(tǒng)作為實(shí)驗(yàn)研究的必要儀器，也起到了舉足輕重的作用，但在中國(guó)市場(chǎng)這個(gè)山寨和低劣仿制產(chǎn)品肆虐的大環(huán)境中，選擇實(shí)驗(yàn)儀器還是需要慎之又慎的，否則會(huì)被無(wú)良廠家或經(jīng)銷(xiāo)商欺騙，即浪費(fèi)了有限的科研經(jīng)費(fèi)，又耽誤了寶貴的實(shí)驗(yàn)時(shí)間。

優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)

微量氣體在線(xiàn)收集及檢測(cè)系統(tǒng)即光解水制氫實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)，集成了光源，反應(yīng)器及玻璃管道體系，取樣系統(tǒng)，氣體循環(huán)，真空環(huán)境等多種設(shè)計(jì)技術(shù)和制造技術(shù)，結(jié)合氣相色譜儀器，可以完成高能量密度光照、反應(yīng)、氣體在線(xiàn)連續(xù)取樣、分析的科研工作，為我國(guó)的能源、材料等戰(zhàn)略性研究的不斷發(fā)展做出了重要貢獻(xiàn)。

光解水系統(tǒng)也稱(chēng)光解水制氫系統(tǒng)或光解水產(chǎn)氫系統(tǒng)，是利用真空系統(tǒng)，在常壓下進(jìn)行光照實(shí)驗(yàn)，產(chǎn)生的氫氣利用氣體攪拌器在系統(tǒng)中攪拌均勻，可以在線(xiàn)取樣進(jìn)入氣相色譜進(jìn)行檢測(cè)， 保證了樣品取出到檢測(cè)過(guò)程的真空性和*性，減少測(cè)試數(shù)據(jù)的誤差，保證微量氫氣在線(xiàn)監(jiān)測(cè)的準(zhǔn)確性。

光解水制氫系統(tǒng)具備以下技術(shù)特點(diǎn):

占地面積小:系統(tǒng)總大小僅為680*450*980mm，放在實(shí)驗(yàn)臺(tái)上或?qū)嶒?yàn)室地上都可以，

為國(guó)內(nèi)實(shí)驗(yàn)室節(jié)省了很多寶貴的實(shí)驗(yàn)空間。

在線(xiàn)檢測(cè): 穩(wěn)定的氣體在線(xiàn)收集檢測(cè)系統(tǒng)，真空環(huán)境定量取樣，使檢測(cè)數(shù)據(jù)更加準(zhǔn)確。

真空進(jìn)樣:進(jìn)樣系統(tǒng)與真空反應(yīng)系統(tǒng)無(wú)縫連接，不但保證了進(jìn)樣時(shí)的氣密性，還可以手

動(dòng)進(jìn)樣制作氫氣標(biāo)樣的標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)。

操作便捷:一站式服務(wù)，即裝即用，進(jìn)樣、取樣、檢測(cè)僅需搬動(dòng)一個(gè)真空閥門(mén)，操作非

常簡(jiǎn)單，zui大程度簡(jiǎn)化實(shí)驗(yàn)過(guò)程。

系統(tǒng)兼容性強(qiáng):本系統(tǒng)不但可以進(jìn)行光催化水制氫實(shí)驗(yàn)，還可以兼容光催化電解水制氫、熱催化水制氫及常壓下二氧化碳制甲醇等適合真空系統(tǒng)在線(xiàn)檢測(cè)的催化實(shí)驗(yàn)。 高氣密性閥體:AULTT系列真空系統(tǒng)(含光解水制氫系統(tǒng))，擁有*的航天技術(shù)"金屬與玻璃低溫焊接技術(shù)"，可保證系統(tǒng)氣密性達(dá)200小時(shí)以上。

檢測(cè)精度高:光解水制氫系統(tǒng)，測(cè)量精度達(dá)1PPM，適合極微量到常量氣體收集及檢測(cè)的各種實(shí)驗(yàn)需求。

光化學(xué)反應(yīng)儀主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見(jiàn)光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品，測(cè)定反應(yīng)動(dòng)力學(xué)常數(shù)，測(cè)定量子產(chǎn)率等功能，廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域

光化學(xué)、干膜、曝光及顯影制程術(shù)語(yǔ)手冊(cè)1、Absorption 領(lǐng)受，吸入

指被領(lǐng)受物會(huì)進(jìn)入主體的內(nèi)部，是一種化學(xué)式的吸入步履。如光化反映中的光能領(lǐng)受，或板材與綠漆對(duì)溶劑的吸入等。還有一近似詞 Adsorption 則是指吸附而言，只附著在主體的概略，是一種物理式的親和吸附。

2、Actinic Light(or Intensity，or Radiation) 有用光

指用以完成光化反映各類(lèi)光線(xiàn)中，其zui有用波長(zhǎng)規(guī)模的光而言。例如在360～420 nm 波長(zhǎng)規(guī)模的光，對(duì)偶氮棕片、淺顯吵嘴底片及重鉻酸鹽感光膜等，其等反映均zui快zui*且功用zui大，謂之有用光。

3、Acutance 解像尖銳度

是指各類(lèi)由感光編制所取得的圖像，其線(xiàn)條邊緣的尖銳景象抽象 (Sharpness)，此與解像度 Resolution 不合。后者是指在必定寬度距離中，可以了了的顯像(Develope)解出若干良多多少組“線(xiàn)對(duì)”而言(Line Pair，系指一條線(xiàn)路及一個(gè)空間的組合)，普簡(jiǎn)易稱(chēng)只說(shuō)解出機(jī)條“線(xiàn)”而已。

4、Adhesion Promotor 附出力增進(jìn)劑

多指干膜中所添加的某些化學(xué)品，能促使其與銅面發(fā)生“化學(xué)鍵”，而增進(jìn)其與底材間之附出力者皆謂之。

5、Binder 粘結(jié)劑

各類(lèi)積層板中的接著樹(shù)脂部份，或干膜之阻劑中，所添加用以“成形”而不致太“散”的接著及組成劑類(lèi)。

6、Blur Edge(Circle)恍惚邊帶，恍惚邊圈

多層板各內(nèi)層孔環(huán)與孔位之間在做瞄準(zhǔn)度搜檢時(shí)，可把持 X光透shi法為之。由于X光之光源與其機(jī)組均非平行光之機(jī)關(guān)，故所得圓墊(Pad)之減少回憶，其邊緣之解像其實(shí)不明銳了了，稱(chēng)為 Blur Edge。

7、Break Point 出像點(diǎn)，顯像點(diǎn)

指制程中已有干膜貼附的“在制板”，于自動(dòng)保送線(xiàn)顯像室上下噴液中遏制顯像時(shí)，抵達(dá)其完成沖洗而閃現(xiàn)出了了圖形的“旅程點(diǎn)”，謂之“Break Point”。所經(jīng)歷過(guò)的沖洗旅程，以占顯像室長(zhǎng)度的 50~75% 之間為好，如斯可以使剩下旅途中的清水沖洗，更能增強(qiáng)斷根殘膜的成果。

8、Carbon Arc Lamp 碳弧燈

晚期電路板底片的翻制或版膜的分娩時(shí)，為其曝光所用的光源之一，是在中心迫近的碳精棒之間，施加高電壓而發(fā)生弧光的拆卸。

9、Clean Room 無(wú)塵室、潔凈室

是一個(gè)遭到賣(mài)力經(jīng)管及精采把握的房間，其溫度、濕度、壓力都可加以調(diào)劑，且氣氛中的塵埃及臭氣已予以消弭，為半導(dǎo)體及細(xì)線(xiàn)電路板分娩制造必需的景象抽象。淺顯“潔凈度”的表達(dá)，是以每“立方呎”的氣氛中，含有大于0.5μm以上的塵粒數(shù)目，做為分級(jí)的尺度，又為儉仆成本起見(jiàn)，常只在使命臺(tái)面上設(shè)置部門(mén)無(wú)塵的景象抽象，以嘗試必需的使命，稱(chēng) Clean Benches。

10、Collimated Light 平行光

以感光法遏制回憶轉(zhuǎn)移時(shí)，為添加底片與板面間，在圖案上的變形走樣起見(jiàn)，應(yīng)采納平行光遏制曝光制程。這類(lèi)平行光是經(jīng)由屢次反射折射，而取得低熱量且近似平行的光源，稱(chēng)為Collimated Light，為細(xì)線(xiàn)路建筑必需的裝備。由于垂直于板面的平行光，對(duì)板面或景象抽象中的少許塵埃都很是緩慢，常會(huì)忠誠(chéng)的暗示在所曬出的回憶上，構(gòu)成許多額定的漏洞錯(cuò)誤，反不如淺顯散射或漫射光源可以也許自彼此補(bǔ)而消彌，故采納平行光時(shí)，必需還要無(wú)塵室的合營(yíng)才行。此時(shí)底片與待曝光的板面之間，已無(wú)需再做抽真空的密接(Close Contact)，而可間接使用較嚴(yán)重的 Soft Contact或Off Contact了。

11、Conformity吻合性，fu貼性

完成零件壞配的板子， 為使整片板子外形遭到賣(mài)力的呵護(hù)起見(jiàn)，再以絕緣性的涂料予以封護(hù)涂裝，使有更好的信賴(lài)性。淺顯軍yong或較高條理的拆卸板，才會(huì)用到這類(lèi)外形貼護(hù)層。

12、Declination Angle 斜射角

由光源所間接射下的光線(xiàn)，或經(jīng)各類(lèi)折射反射過(guò)程后，再行射下的光線(xiàn)中，凡閃現(xiàn)不垂直射在受光面上，而與“垂直法線(xiàn)”呈某一斜角者(即圖中之 a角)該斜角即稱(chēng) Declination Angle。當(dāng)此斜光打在干膜阻劑邊緣所組成的“小孔相機(jī)”并經(jīng) Mylar 折光下，會(huì)泛起另外一“平行光”之半角(Collimation HalfAngle，CHA)。但凡“細(xì)線(xiàn)路”曝光所邃密精彩的“高平行度”的曝光機(jī)時(shí)，其所呈的“斜射角”應(yīng)小于 1.5 度，其“平行半角”也須小于 1.5 度。

13、Definition 邊緣傳神度

在以感光法或印刷法遏制圖形或回憶轉(zhuǎn)移時(shí)，所取得的下一代圖案，其線(xiàn)路或各導(dǎo)體的邊緣，是不是能泛起齊直而又忠于原底片之外形，稱(chēng)為“邊緣齊直性”或傳神度“Definition”。

14、Densitomer 透光度計(jì)

是一種對(duì)吵嘴底片之透光度(Dmin)或遮光度(Dmax)遏制丈量之儀器，以搜檢該底片之劣化水平若何。其經(jīng)常使用的品牌如 X-Rite 369 等于。

15、Developer 顯像液，顯影液，顯像機(jī)

用以沖洗掉未感光聚合的膜層，而留下已感光聚合的阻劑層圖案，其所用的化學(xué)品溶液稱(chēng)為顯像液,如干膜制程所用的碳酸鈉(1％)溶液等于。

16、Developing 顯像，顯影

是指感光回憶轉(zhuǎn)移過(guò)程中，由母片翻制子片時(shí)稱(chēng)為顯影。但對(duì)下一代像片或干膜圖案的閃現(xiàn)作業(yè)，則應(yīng)稱(chēng)為“顯像”。既然是由底片上的“影”轉(zhuǎn)移成為板面的“像”，雖然就該當(dāng)稱(chēng)為“顯像”，而不宜再續(xù)稱(chēng)底片階段的“顯影”，這是淺而易見(jiàn)的事理?？墒菢I(yè)界積非成是習(xí)用已久，一時(shí)興不茍且更正。日文則稱(chēng)此為“現(xiàn)像”。

17、Diazo Film 偶氮棕片

是一種有棕色阻光膜的底片，為干膜回憶轉(zhuǎn)移時(shí)，在紫外光中公用的曝光用具(Phototool)。這類(lèi)偶氮片即使在棕色的遮光區(qū),也能在“可見(jiàn)光”中透shi現(xiàn)實(shí)片下的板面景象抽象，比吵嘴底片要便當(dāng)?shù)亩唷?/span>

18、Dry Film 干膜

是一種做為電路板回憶轉(zhuǎn)移用的干性 gan光薄膜阻劑,還有 PE 及 PET 兩層皮膜將之夾心呵護(hù)?，F(xiàn)場(chǎng)施工時(shí)可將 PE 的隔離層撕掉，讓中心的感光阻劑膜壓貼在板子的銅面上,在經(jīng)由底片感光后即可再撕掉 PET 的表護(hù)膜，遏制沖洗顯像而組成線(xiàn)路圖形的部門(mén)阻劑，進(jìn)而可再?lài)L試蝕刻(內(nèi)層)或電鍍(外層)制程，zui初在蝕銅及剝膜后，即取得有裸銅線(xiàn)路的板面。